{"id":16073,"date":"2023-02-28T12:56:00","date_gmt":"2023-02-28T17:56:00","guid":{"rendered":"https:\/\/www.tuxtla.tecnm.mx\/?p=16073"},"modified":"2023-03-02T13:15:41","modified_gmt":"2023-03-02T18:15:41","slug":"estudiantes-del-tecnm-campus-tuxtla-se-capacitan-en-el-laboratorio-nacional-cnmn-del-ipn","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.tuxtla.tecnm.mx\/dcab\/estudiantes-del-tecnm-campus-tuxtla-se-capacitan-en-el-laboratorio-nacional-cnmn-del-ipn\/","title":{"rendered":"Estudiantes del TecNM campus Tuxtla se capacitan en el laboratorio nacional CNMN del IPN"},"content":{"rendered":"\n
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Los semiconductores son materiales que pueden variar su conductividad\nel\u00e9ctrica para realizar funciones complejas a grandes velocidades<\/strong>. Adem\u00e1s,\nlos semiconductores pueden variar sus dimensiones desde micr\u00f3metros hasta los\nnan\u00f3metros (millon\u00e9simas partes de un mil\u00edmetro). Sus aplicaciones son\ninmensas, porque son la base para fabricar los microcircuitos que utiliza\ncualquier aparato electr\u00f3nico que conocemos. Donde la mayor\u00eda de ellos se basa\nen el silicio, el segundo elemento m\u00e1s abundante de la corteza terrestre.<\/p>\n\n\n\n\n\n\n\n

Como respuesta a la convocatoria\nnacional para dar frente a la crisis mundial de fabricaci\u00f3n de semiconductores,\nestudiantes del Tecnol\u00f3gico Nacional de\nM\u00e9xico campus Tuxtla Guti\u00e9rrez se capacitaron, en el \u00e1rea de semiconductores\nmediante el curso de electr\u00f3nica flexible<\/strong>. Durante el curso aprendieron a\ndesarrollar el proceso de fabricaci\u00f3n de transistores de pel\u00edcula delgada en un\ncuarto limpio. <\/p>\n\n\n\n

Esta capacitaci\u00f3n se llev\u00f3 a cabo del 6 al 10 de febrero\ndonde 4 estudiantes de los niveles de Licenciatura, maestr\u00eda y Doctorado\nsupervisados por el Dr. Carlos Hern\u00e1ndez, profesor investigador del TecNM\ncampus Tuxtla Guti\u00e9rrez<\/strong> iniciaron su capacitaci\u00f3n en el \u00e1rea de fabricaci\u00f3n\nde semiconductores visitando las instalaciones del laboratorio nacional del IPN\nCNMN. Donde, el curso fue impartido por el Dr. Norberto Hern\u00e1ndez profesor\ninvestigador del IPN.<\/p>\n\n\n\n

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\u201cEs gratificante mencionar que, gracias a las instituciones educativas\ncomo el TecNM y el IPN por mencionar algunas instituciones p\u00fablicas en conjunto\ncon los centros de investigaci\u00f3n y los laboratorios nacionales CONACYT es\nposible que los j\u00f3venes estudiantes puedan desarrollar una carrera en el \u00e1rea\nde semiconductores. Desde f\u00edsica de semiconductores hasta procesos de fabricaci\u00f3n\nde circuitos integrados\u201d,<\/em> remarc\u00f3 Carlos\nHern\u00e1ndez, profesor investigador del TecNM campus Tuxtla Guti\u00e9rrez.<\/strong><\/p>\n\n\n\n

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Fig 1<\/figcaption><\/figure><\/div>\n\n\n\n

El proceso de fabricaci\u00f3n\nconsiste en procesos fotolitogr\u00e1ficos que se pueden resumir en cuatro pasos. Como punto de partida se ilustran las capas\nque conforman un transistor convencional de Silicio como el MOSFET en contraste\ncon un transistor de pel\u00edcula delgada<\/strong> (ver fig 1). Donde el semiconductor puede estar conformado\nsemiconductores alternativos al Silicio como \u00d3xidos met\u00e1licos IGZO,<\/strong> en este\ncurso los estudiantes aprendieron como se usa una maquina evaporadora de has de\nelectrones (E. Beam) la cual se emple\u00f3 para depositar la compuerta del\ntransistor (figura 2).<\/p>\n\n\n\n

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Fig. 2<\/figcaption><\/figure><\/div>\n\n\n\n

As\u00ed tambi\u00e9n aprendieron el proceso de ataque qu\u00edmico de los metales.\nSubsecuentemente se deposit\u00f3 el aislante en este caso Al2O3 por la t\u00e9cnica de\nALD-150LE<\/strong> (atomic layer deposition<\/em>).\nCabe mencionar que esta t\u00e9cnica permite depositar capas con precisi\u00f3n de capas\nat\u00f3micas. La figura 3<\/strong> ilustra el\nequipo y como queda el dep\u00f3sito sobre la compuerta del transistor. <\/p>\n\n\n\n

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Fig. 3<\/figcaption><\/figure><\/div>\n\n\n\n

La estructura Metal, Oxido y semiconductor<\/strong> se ilustra en la figura\n4. Una vez depositado el semiconductor y los contactos de fuente y drenador se\nprocede a depositar una capa pasavante para aislar el transistor del medido\nevitando la oxidaci\u00f3n\nde la superficie de los materiales activos. Posteriormente se requieren dos\nprocesos fotolitogr\u00e1ficos para definir el canal semiconductor y los contactos\nde fuente y drenador.<\/p>\n\n\n\n

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Fig. 4<\/figcaption><\/figure><\/div>\n\n\n\n

\u201cEn general la fotolitograf\u00eda es una t\u00e9cnica de fabricaci\u00f3n que permite\ngenerar patrones geom\u00e9tricos en metales y materiales semiconductores a trav\u00e9s\nde m\u00e1scaras o patrones establecidos. Para ello se expone una resina foto\nsensible a luz ultravioleta en de 405nm. En espec\u00edfico se emple\u00f3 el m\u00e9todo de\nliftoff en el cual se recubre con resina foto-sensible el material que se\nquiere proteger para depositar el semiconductor justamente donde se expone la\nresina y posteriormente se retira. Finalmente, la resina que sirvi\u00f3 para\nproteger las otras capas del proceso es removida\u201d.<\/em><\/p>\n\n\n\n

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La semana de capacitaci\u00f3n concluyo con una charla titulada \u201cModelado de Circuitos Digitales modernos usando FPGAs y su importancia global\u201d<\/strong>, impartida por el Dr. Carlos Hern\u00e1ndez<\/strong> en donde se habl\u00f3 sobre las oportunidades laborales en el dise\u00f1o de circuitos con FPGAs y su relaci\u00f3n con la fabricaci\u00f3n de chips.<\/strong><\/p>\n\n\n\n

\u201cCiencia y Tecnolog\u00eda con Sentido Humano\u201d<\/strong><\/em>
Departamento de Comunicaci\u00f3n y Difusi\u00f3n
TecNM campus Tuxtla Guti\u00e9rrez <\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"

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